半導體用純水處理設備,單晶硅用純水處理設備,集成電路用純水處理設備,超大規模集成電路用超純水處理設備,顯象管用高純水設備,觸摸屏用超水設備,液晶顯示用超水設備,高精度線路板用純水處理設備,光學、光電類器件用純水處理設備,各種電子器件用純水處理設備,微電子工業用超純水設備、 IC 芯片封裝行業用高純水設備,太陽能硅片清洗用純水處理設備, LCD 清洗用超純水設備

綠峰環保工程公司生產的電子級用純水設備的應用范圍：

1.半導體、單晶硅、集成電路、超大規模集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學、光電類器件,各種電子器件,微電子工業、

IC 芯片封裝行業,太陽能硅片清洗、 LCD 清洗等.

2.醫藥行業用水，生物、生化實驗室用水,制藥行業,無菌、無熱源注射用水、制劑工藝用水，醫院血液透析用水、生化分析用水、輸液醫藥用水等。

3.熱電廠用水處理、冶金工業用水處理、航天工業、汽車工業等.

4.制取熱力、火力、渦輪發電鍋爐用水，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。

二.綠峰環保工程公司符合電子級用超純去離子水設備工藝流程:

1.傳統工藝:

原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→精密過濾器→陽離子樹脂交換柱→陰離子樹脂交換柱→陰陽離子樹脂交換混床→終端精密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）.

 2.新工藝一:

原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地域不同選用)→精密過濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端精密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）

3.新工藝二:

原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地域不同選用)→精密過濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端精密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）

文章來源：東莞市申藍水處理科技有限公司

          東莞市綠峰環保機電工程有限公司

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