勻膠旋涂機（SPIN COATING）
產品型號：KW-4A型單面勻膠機KW-4A-D雙面勻膠機
勻膠機產品俗稱：甩膠機、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、真空鍍膜機，其技術標準按照美國技術完成。產品外形美觀一致性好，操作簡便。
北京優仕錦科技發展有限公司根據半導體行業發展需要，配合光刻技術需要雙面處理，開發出雙面無劃痕臺式勻膠機，填補了國內企業在生產需求光刻工藝時，需要雙面處理晶體勻膠而無法達到工藝要求。北京優仕錦公司根據這一要求，首次開發出雙面勻膠機，其勻膠承載體采用新型材料，“聚甲醛”作為特制托盤，其特點是在勻膠時，對工藝要求較高的光刻勻膠處理時，單面勻膠后在進行雙面勻膠無劃痕，有效的保護了表面微處理效果，是傳統的鋁合金制品托盤比擬不了的。同時聚甲醛托盤具有重量輕，配合勻膠高轉速更精確，耐腐蝕等特點。北京優仕錦科技發展有限公司已經申請產品實用新型專利。
聚甲醛(英文：polyformaldehyde)熱塑性結晶聚合物。被譽為“超鋼”或者“賽鋼”，又稱聚氧亞甲基。結構為，英文縮寫為POM。
產品構造：北京優仕錦公司勻膠機面板采用高檔烤瓷晶技術，高檔潔凈。關鍵控制元器件定子和轉子采用韓國進口；電機采用直流永磁電機；接膠盤采用304不銹鋼一次性鍛壓成型，并且進行表面特殊防腐技術處理；托盤采用鋁合金體一次性憲制。整機裝配由北京優仕錦公司技術工程師按照標準技術完成，并且出廠前經過嚴格檢測與效驗。
工作原理：高速的旋轉離心力，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。
使用范圍：KW-4A型勻膠機可廣泛應用于新型顯示技術研發，即非晶硅、微晶硅薄膜晶體管（TFT）陣列基板的制備，指通過旋轉離心力的方式把膠體（如光刻膠、環氧樹脂等）均勻的涂敷在光學器件上。該設備具有以下功能：能夠保證實方形基板的勻膠膜厚度均勻性達到±3%，且表面無環形漣漪出現；能夠保障TFT陣列基板制備工藝技術的順利開發，TFT陣列基板試驗線的組建。（即適用于半導體、制版及表面涂覆等工藝，可在工礦企業、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用）其銷售市場為韓國，臺灣，朝鮮，香港，美國（主要供應：美國HEADWAY公司 美國CHEMSOLS公司），及中國大陸
本機具有以下特點：
1、電機勵磁和電樞分開供電。勵磁用12伏直流穩壓電源供電，電樞用運放控制IRF830調速，它比可控硅調速優越，故其轉速在500—8000轉/分范圍內非常穩定。
2、本勻膠機有兩檔轉速。在啟動之后，先以低速運轉，然后自動變到高速運轉。兩檔速度及運行時間分別可調。
3、本勻膠機采用光電檢測，數字電路測速，對電機的轉速檢測快速準確。電機穩速方面采用了光電隔離的精密負反饋電路，使整機在高達8000RPM以上轉速時仍十分穩定，有力的保證了勻膠質量。
4、“吸片”采用電子開關控制電磁閥完成氣路通斷，這樣適合流水線工藝，一個氣泵可同時帶幾臺勻膠機工作，提高效率。
5、勻膠機定時采用可調定時電路控制，面板上調節Timer旋鈕即可改變勻膠時間。
6、在安裝結構上，采取了減震措施，因而勻膠機在運轉時噪音很低。
7、電磁閥與電機運行有連鎖功能，電磁閥未動作不能啟動電機運行，本次勻膠電機未停不能進行下次勻膠，若運行中誤按“CONTROL”鍵也不能停止吸氣，即不會產生跑片。
由于采用了以上一系列措施，故本機具有很高的轉速穩定性和快速啟動性，可以保證涂覆表面均勻，并可通過調節轉速調節涂覆厚度。
設定參數：
Speed A調速范圍 500—2500轉/分
Timer B勻膠時間 0—18秒
Speed A轉速范圍 800—8000轉/分
Timer B勻膠時間 0—60秒
轉速穩定度 ±1%
電源電壓（二種） 220v/ 50Hz或110v /50Hz
電機功率 40W
穩定涂膜尺寸 Φ5—Φ100mm
雙級真空吸氣要求 ≥60升/分
勻膠機主機尺寸：220mm X 210mm X 160mm
包裝外形尺寸：410mm X 410mm X 350mm
重量：7.5KG
OSK公司作為全球領先的半導體設備供應商，多年來致力于掩膜對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上最早將勻膠機、光刻機商品化的公司，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；依優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
勻膠機的面板顏色有烤瓷黑與烤瓷白，客戶若無指定，按隨機發貨。（勻膠機承載片樣托一臺配兩個，特殊樣品可以免費訂制）
