XCTG-6

XCTG-8

鍍膜室規(guī)格

∮1200×1000～1200mm

∮1200～1900mm×1200～1300mm

極限真空度

≤7.6×10^-4Pa

冷態(tài)抽真空時間

從1×10⁵Pa至6.6×10^-3Pa≤15分鐘

機(jī)組配置

分子泵F2500 3臺

分子泵F4000 2-4臺

靶配置

6個弧源

8個弧源

配電要求

KW

KW

設(shè)備用途

適用于手機(jī)殼、手表、高爾夫球具等行業(yè)高品質(zhì)鍍膜要求

備注

可根據(jù)用戶產(chǎn)品、產(chǎn)量、膜層特殊要求設(shè)計制造非標(biāo)專用設(shè)備。可加裝磁控靶、中頻孿生對靶等。