安吉爾良喬環保大型純水設備工藝簡介
在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致報廢、次品。在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，III族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，V族素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20%~50%）會使P型硅片上的局部區域變化為N型硅而導致器件性能變壞。水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。因此水的質量相當重要。采用反滲透加EDI的脫鹽工藝，可以達到超純水標準。
