張家港純水設備|電鍍清洗純水設備
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一、鍍膜玻璃清洗超純水設備概述
鍍膜玻璃清洗超純水設備，在設備設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩNaN。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
二、超純水設備在鍍膜玻璃清洗的應用
1.玻璃清洗、光電產品、LED、LCD顯像管、液晶顯示器、和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。
2.在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg。
3.液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。
三、鍍膜玻璃清洗用超純水設備對水質的要求
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
四、符合鍍膜玻璃鏡超純水水質標準
鍍膜玻璃鏡片、光電產品、LED、LCD顯像管、液晶顯示器用超純水水質標準：我公司LED、LCD顯像管、液晶顯示器用超純水出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩNaN、15MΩNaN、10MΩNaN、2MΩNaN、0.5MΩNaN五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
五、鍍膜玻璃清洗用超純水設備特點
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
六、鍍膜玻璃超純水設備制備工藝
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
七、鍍膜玻璃清洗用超純水設備應用場合
1.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
2.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
3.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
4. 集成電路生產中高純水清洗硅片☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
5.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
6.高品質顯像管、螢光粉生產☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
7.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
8.實驗室和中試車間☆汽車、家電表面拋光處理☆光電產品、其他高科技精微產品
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