真空電鍍（PVD）全稱真空離子濺射鍍，是一種物理沉積現(xiàn)象。即在超低壓容器中，利用電場的遷移作用對被鍍件涂覆金屬、金屬化合物、或非金屬涂層的一種工藝。

真空電鍍特點

(1)金屬膜層很薄能嚴格復制出貨品表面情況；

(2)卓越的附著力，彎折過程中不會脫落

(3)產(chǎn)品不含有對人體有害的金屬物質(zhì)，加工過程中對人體和環(huán)境無害

(4)鍍層均勻、致密、附著性好、硬度高、耐磨擦。

(5)符合歐盟ROHS標準.環(huán)保。

(6)突出優(yōu)點:表面不沾污垢,手指印等輕輕一擦就掉.

(7)性能穩(wěn)定:48小時鹽霧試驗,耐磨試驗,人工汗測試,全部合格