問題四：保護膜產品剝離困難，在型材產品安裝完畢進行剝離時，保護膜無法有效剝離，究其原因有兩種可能性，一是保護膜產品所用敏膠不是保護膜專用敏膠，如果是這樣的話，保護膜在粘貼的時候當然效果非常好，但在剝離時就會非常困難，這也是一些非法的保護膜產品生產廠家所產保護膜的最常出現的問題，還有一種可能性就是保護膜母帶所使用的材質太軟，無法承受剝離時的拉力，在剝離時出現斷裂現象，這是讓用戶非常頭痛的問題。

名稱：鉻（Cr)

鉻有時用在分光鏡上并且通常用作'膠質層'來增強附著力，膠質層可能在5-50NM的范圍內，但在鋁鏡膜導下面，30NM是增強附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟蒸發而塊狀宜用電子槍來蒸發，該材料升華，但是表面氧化物可以防止它蒸發/升華，可以全用鉻電鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質層對金鏡化合物進行韌性處理，也可在塑料上使用鉻作為膠質層.也可使用一個螺旋狀的鎢絲蒸發.它應該是所有材料中具有最高拉應力的材料.

. 高粘保護膜

特性: 厚(≥0.05±0.003), 寬(≤1.3),高(100-800),基材(PE),剝離強度(80-100g/cm),耐溫(60),拉伸率(>400)

用途: 粘力穩定,貼附性好,再剝落性能良好,無殘膠現象, 適用于細紋磨砂板,鋁塑板,難粘塑料板材等.

6. 超高粘保護膜

特性: 厚(≥0.04±0.003), 寬(≤1.3),高(100-800),基材(PE),剝離強度(100g/cm以上),耐溫(60),拉伸率(>400)

用途: 粘性特高,選用水性丙烯酸作壓敏膠,使用方便,易貼易撕,無殘膠現象.適用于粗紋鋁板等難粘材料

名稱：鍺化鋅（ZnGe)

疏散的鍺化鋅具有一個比其相對較高的折射率，在500NM時N=2.6，在可見光譜區以及12000-14000NM區域具有較少的吸收性并且疏散的鍺化鋅沒有其材質那么硬.使用鉭舟將其蒸發到150℃的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學濾鏡.

氧化鉿

名稱：氟化釷（ThF4）

260-12000nm以上的光譜區域，是一種優秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區N從 1.52降到1.38（1000nm區域）在短波長趨近于1.6，蒸發溫度比MGF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免THF4良性顆粒火星飛濺出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加堅固.該膜在IR光譜區300NM小水帶幾乎沒有吸收，這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性，在8000到12000NM完全沒有材料可以替代.

4沉積技術

將金屬薄層沉積到襯底或之前獲得的薄層的技術稱為表面沉積。這里的“薄”是一個相對的概念，但大多數的沉積技術都可以將薄層厚度控制在幾個到幾十納米尺度的范圍內，分子束外延技術可以得到單一原子層的結構。