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光電化學反應裝置
NBET-PEC4000系列光電化學反應裝置。依托可選擇的多光譜光源和各種光電化學池，與電化學工作站聯用將光電化學反應輸出至電化學工作站，以進行光電化學反應的科學研究。 如研究分子或離子在激發態時的氧化還原反應現象、規律及應用；研究光直接影響電極過程的電化學、光能與電能和化學能的轉換測量；光電化學電池的光電轉化測量；光電化學合成和富集。由于系統設計的靈活性，可與大多數主流電化學工作站聯用，光源可選，光譜范圍從紫外、可見到紅外（UV-VIS-IR），從而可作為光電化學反應測試系統使用，適合光致電化學分析法和光電化學電池性能的研究。
而紫外-可見光譜電化學技術是將紫外-可見光譜和電化學相結合起來同時進行測量的方法。紫外-可見光譜法T15092477886(不是聯系方式) 是基于分子內電子躍遷產生的吸收光譜進行分析，其吸收與電子結構緊密相關，研究對象大多是具有共軛雙鍵結構的分子。該方法具有靈敏度高、準確度好、選擇性佳、操作簡便、分析速度快、應用廣泛等特點。將它與電化學方法聯用，在進行電化學研究的同時，可以獲得反應物、中間體以及產物的大量信息，很大程度上促進了電化學研究在分子水平上的發展。可以應用在:（1）瞬時化學組分或平衡光譜的測量；（2）電活性物質還原電位的測定；（3）電化學動力學的測量；（4）電極/溶液界面上的電荷傳遞過程研究。
系統主要部分：光源、反應池、電化學工作站、光學暗室，選配：光功率計、單色儀和光譜儀。
1.光源
1.1復合光源 選配濾光片可提供紫外區、可見光區、以及400-700nm之間的單色光。F300普通氙燈光譜范圍300-2500，UV300紫外增強型氙燈光源光譜范圍200-2500nm。
光譜曲線：
主要參數 | HSX-F300 | HSX-UV300 |
輸入功率Power(Watts) | 300W（180W~320W） | 300W（180W~320W） |
工作電流Current (Amps DC) | 21A（10A~22A） | 21A（10A~22A） |
工作電壓Voltage (Volts DC) | 14V（13V~16V） | 14V(13~16V) |
發光總輸出功率Radiant Output (Watts) | 50W | 50W |
紫外光區輸出功率UV Output, <390nm (Watts) | 2.6W | 6.6W |
紅外光區輸出功率IR Output, >770nm (Watts) | 28.8W | 26.8W |
可見光區輸出Visible Output, 390-770nm (Lumens) | 5000Lu | 4500Lu |
色溫Color Temperature (Kelvin) | 5600K | 5050K |
燈泡窗口Window Diameter (mm) | 25.4mm | 25.4mm |
燈泡保守壽命Life（Hours） | 1000H | 1000H |
發光光譜范圍SpectralOutput(nm) | 300nm~2500nm | 200nm~2500nm |
工作光斑直徑 | 連續可調，最大60mm。 | 連續可調，最大60mm。 |
光輸出形式 | 沿光軸可自由旋轉 | 沿光軸可自由旋轉 |
平行光發散角 | 平均5 ° | 平均5 ° |
1.2可調單色光源
軟件可實現波長選擇、光柵選擇和濾光片輪控制，全自動提供全光譜單色光，設置起始波長，終止波長，步長間隔，延遲時間等，點擊運行即可，配合電化學工作站等，方便測試ipce和IV等。
常用型號：
產品編號 | 300150 | 300300 |
光源 | 進口氙燈光源 | |
單色儀型號 | Omno151 | Omno302 |
光譜范圍(nm) | 200-2500 | |
輸出帶寬(nm，推薦) | 2 | 1 |
輸出帶寬可調范圍(nm) | 0.5-30 | 0.2-15 |
單色光輸出步長 | 0.0045nm | 0.0023nm |
光柵1# | 1200g/mm@300nm | 1200g/mm@300nm |
光柵2# | 600g/mm@750nm | 1200g/mm@500nm |
光柵3# | - | 600g/mm@750nm |
濾光片使用范圍(nm) | 200-1600 | |
輸出光穩定性 | 優于0.5% | |
1.3選配光纖
光纖束，直徑和長度根據使用要求選擇，可以一分多支。石英光纖芯徑（直徑D）0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.8mm；最小彎曲半徑短時間100D，長時間未300D；數值孔徑（NA）0.21-0.24；紫外光（200-400nm） 85-98%；可見光（400-780nm） 97-99%；
石英光纖芯徑(D) (mm) | 0.1 | 0.2 | 0.3 | 0.4 | 0.5 | 0.6 | 0.8 | |
芯徑皮層外徑比 | 1：1.05，1：1.1，1：1.2，1：1.4 | |||||||
最小彎曲半徑 (mm) | 100D （短時間），300D（長時間） | |||||||
保護涂層外徑 (mm) | 1.2-2.0 | |||||||
數值孔徑 (NA) | 0.21-0.24 | |||||||
每米 | 紫外光 (0.25μm-0.4μm) | 85-98 | ||||||
可見光（0.4μm-0.7μm） | 97-99 | |||||||
近紅外（0.76μm-1.6μm） | 90-99 | |||||||
氦氖激光 (0.6328μm） | 99 | |||||||
YAG激光 （1.06μm） | 98 | |||||||
Ar離子(Ar+ laser) （0.5145μm） | 98 | |||||||
傳輸功率 ( W/cm2) | ≤800（D=0.5mm）（連續Nd:YAG激光） | |||||||
特 點 | 優異的光學性能，寬廣的傳光波段，優越的機械性能和撓曲性，是氦氖激光、YAG激光等大功率激光傳輸的理想材料 | |||||||
應 用 | 大功率激光傳輸、激光醫療、光譜測量、激光焊接、照明、傳感、能量傳輸等 | |||||||
