CKII型單向超越離合器 CKII系列為楔塊式單向離合器，無內(nèi)外圍，由雙保持架保持楔塊，選用時必須與客戶按技術(shù)要求設(shè)計的內(nèi)外圍相配合，并附加滾動軸承支撐軸向和徑向負載。 楔塊在保持架及彈性元件作用下沿圓周均勻分布，當(dāng)加載時，楔塊同時動作，扭矩分布均勻，因此在苛刻的條件下，也能發(fā)揮超越離合的作用。由于楔塊的曲率比滾柱的曲率大，裝入量多，所以比同尺寸的滾柱離合器扭矩容量大。 楔塊是用耐磨性好的材料經(jīng)精加工成型。在外圍旋轉(zhuǎn)時，使用嚙合型楔塊，故空轉(zhuǎn)時磨擦損失減少到最低空轉(zhuǎn)與嚙合的變化，使楔塊與內(nèi)外圍接觸位置也相應(yīng)變化，延長了壽命。 我公司可提供標(biāo)準(zhǔn)式的內(nèi)外圈。若客戶自行制造，軸及外圍應(yīng)經(jīng)過硬化處理，最終達到硬度為HRC60—62，硬化層深度須》0．6mm。接觸面內(nèi)部硬度為HRC35～45，接觸面最大允許傾斜度為：≤0.007mm／25mm。工作面度須≤RaO.8μm。